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精密机械与半导体设备研究

  • 2015-09-01
  • Ruling Digital

精密机械与半导体设备研究组

  以半导体制程系统(Semiconductor Process System)、机械系统与电控系统(Mechanical System and Electrical Control System)、机电整合系统(Mechatronics System)为专题进行研究,包含进行真空系统、制程反应系统、电浆系统等开发与研究;各项半导体制程设备之机构设计与半导体制程设备之电控系统开发与研究;进行机电整合、人机接口、自动控制等开发与研究。

  研究规划上将发展:
  1. 新型氧化扩散设备等研究,并针对精密氧化控制、高速昇降温之关键技术来作长期研究
  2. 新型薄膜形成设备等研究,并针对低介电常数薄膜形成设备、高介电薄膜之关键技术来作长期研究
  3. 新型黄光微影设备等研究,并针对电子束与X光控制、浸润式微影之关键技术来作长期研究
  4. 新型化学机械研磨设备等研究,并针对平坦化、均一性、与选择性控制之关键技术来作长期研究