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精密機械與半導體設備研究組

  以半導體製程系統(Semiconductor Process System)、機械系統與電控系統(Mechanical System and Electrical Control System)、機電整合系統(Mechatronics System)為專題進行研究,包含進行真空系統、製程反應系統、電漿系統等開發與研究;各項半導體製程設備之機構設計與半導體製程設備之電控系統開發與研究;進行機電整合、人機介面、自動控制等開發與研究。

  研究規劃上將發展:
  1. 新型氧化擴散設備等研究,並針對精密氧化控制、高速昇降溫之關鍵技術來作長期研究
  2. 新型薄膜形成設備等研究,並針對低介電常數薄膜形成設備、高介電薄膜之關鍵技術來作長期研究
  3. 新型黃光微影設備等研究,並針對電子束與X光控制、浸潤式微影之關鍵技術來作長期研究
  4. 新型化學機械研磨設備等研究,並針對平坦化、均一性、與選擇性控制之關鍵技術來作長期研究