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張 立
合聘師資
姓名 張 立
職稱 教授
電子郵件 lichang@cc.nctu.edu.tw
聯絡電話 +886-3-5731615
研究專長
1. 磊晶結構設計與成長
鑽石、氧化鋅、三族氮化物半導體磊晶薄膜成長(microwave plasma CVD, microwave-assisted chemical bath deposition, pulsed laser deposition, sputtering, metalorganic CVD)
原子級掃描穿透式電子顯微鏡分析 (SiGe/Si、TiN/MgO、quantum dots in diamond)
界面結構與晶體缺陷 (Si3N4/Si, TiN/Si, ZrN/Si, AlN/sapphire, GaN/Si)
氧化物氮化製程 (SiO2/Si, TiO2/Si, ZrO2/Si, HfO2/Si, Al2O3/Si)
2. VHF PECVD大面積鑽石多晶膜電極製備
國家 學校名稱 系所 學位 期間
英國 牛津大學 冶金及材料學 博士 1981.09 ~ 1985.06
台灣 國立清華大學 材料科學與工程 碩士 1979.09 ~ 1981.06
台灣 國立清華大學 材料科學與工程 學士 1973.09 ~ 1977.06
服務機關名稱 單位 職務
國立交通大學 國際半導體產業學院 合聘教授
國立交通大學 材料科學與工程研究所 教授
國立交通大學 材料科學與工程研究所 副教授
國家科學委員會 工程技術處 研究員兼副處長
工業技術研究院 工業材料研究所 研究員